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400-68-17025

產(chǎn)品名稱:場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡

產(chǎn)品型號(hào):GeminiSEM 560

產(chǎn)品品牌:ZEISS 蔡司

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客服熱線:400-68-17025(09:00 - 22:00)

服務(wù)承諾:真實(shí)描述正品銷售售后保障

  • 產(chǎn)品詳情

GeminiSEM 560 場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡(FE-SEM)

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FE-SEM滿足亞納米成像、分析和樣品靈活性的高要求

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蔡司GeminiSEM可助您輕松實(shí)現(xiàn)亞納米級(jí)分辨率的成像。出色的成像和分析技術(shù)更使FE-SEM(場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡)如虎添翼。采用創(chuàng)新的電子光學(xué)系統(tǒng)和全新樣品倉(cāng)設(shè)計(jì),不僅操作更加簡(jiǎn)便,用途更加靈活多樣,還可為您帶來(lái)更高的圖像質(zhì)量。無(wú)需水浸物鏡即可拍攝低于1 kV的亞納米級(jí)圖像。

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Gemini電子光學(xué)系統(tǒng)的三種設(shè)計(jì):

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● GeminiSEM 360 — 分析測(cè)試平臺(tái)的理想選擇

● GeminiSEM 460 — 實(shí)現(xiàn)高效分析

● GeminiSEM 560 — 表面成像的新標(biāo)準(zhǔn)

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GeminiSEM 560

探索表面成像新標(biāo)準(zhǔn):Gemini 3鏡筒搭載全新的電子光學(xué)引擎Smart Autopilot,使樣品能夠在低于1 kV、分辨率低于1 nm的條件下進(jìn)行無(wú)漏磁成像,且無(wú)需樣品臺(tái)偏壓或單色器,可在您的工作條件下達(dá)到理想效果。

 
低電壓條件下不導(dǎo)電礦物顆粒表面的細(xì)節(jié):GeminiSEM 560,在800V下,Inlens SE。

輕松實(shí)現(xiàn)1 kV以下成像

★ Gemini 3鏡筒在低于1 kV、分辨率低于1 nm的條件下進(jìn)行無(wú)漏磁成像,且無(wú)需樣品臺(tái)偏壓或單色器。其包含Nano-twin物鏡和全新的電子光學(xué)引擎Smart Autopilot。

★ 采用全新可變壓力模式和探測(cè)系統(tǒng)可獲得非導(dǎo)電物質(zhì)的圖像:在VP模式下,通過(guò)低光毒性樣品交換艙后,將真空敏感樣品放入樣品倉(cāng),可確保在保留特征的同時(shí)快速獲得結(jié)果。

★ 利用帶雙EDS端口的全新大樣品倉(cāng)輕松分析精細(xì)樣品。出色的探測(cè)器立體角確保您獲得快速、無(wú)陰影的成像。

 
對(duì)CeO2納米顆粒進(jìn)行三維STEM斷層掃描成像。GeminiSEM 560,aSTEM,明場(chǎng),30 kV。

整合專業(yè)知識(shí)

★ 該系統(tǒng)的觀察視野大大增加,從而可以輕松進(jìn)行簡(jiǎn)便的樣品導(dǎo)航。

★ 對(duì)于要求極為嚴(yán)苛的樣品,全新的電子光學(xué)引擎Smart Autopilot大幅提升了成像速度。其可以節(jié)省時(shí)間,讓您無(wú)需進(jìn)行耗時(shí)的對(duì)焦:此款引擎能夠驅(qū)動(dòng)電子光學(xué)系統(tǒng),放大倍率范圍從小于1倍到高達(dá)500,000倍,可全程進(jìn)行自動(dòng)對(duì)中、校準(zhǔn)和聚焦。獲得專利的全新視差自動(dòng)聚焦也包含在內(nèi),全新的自動(dòng)擺動(dòng)功能為您在數(shù)秒之內(nèi)提供清晰圖像。

★ Python腳本可在三維STEM斷層掃描成像等自動(dòng)化工作流中使用這些功能。

最有效點(diǎn):NdFeB磁體上的磁疇襯度

體驗(yàn)出色的襯度

★ 在您設(shè)置的工作前提下找到最有效點(diǎn)意味著您已經(jīng)選擇了正確的參數(shù)組合,而實(shí)現(xiàn)理想圖像的訣竅則是找到該參數(shù)組合。Gemini無(wú)漏磁技術(shù)及其全新的Gemini 3鏡筒可為您呈現(xiàn)理想的參數(shù)組合,助您探索新信息。 ★ 樣品上的磁場(chǎng)小于2 mT,能輕松實(shí)現(xiàn)磁疇襯度成像。采用可進(jìn)行能量選擇的Inlens背散射探測(cè)器可執(zhí)行能量光譜成像,采用環(huán)形背散射探測(cè)器可執(zhí)行電子環(huán)形光譜成像。 ★ 使用ZEN Connect將所有數(shù)據(jù)匯集在一起,細(xì)分并報(bào)告您的發(fā)現(xiàn)。

 

Gemini電子光學(xué)系統(tǒng)背后的科技

● Gemini 1

基本原理簡(jiǎn)介

FE-SEM專為高分辨率成像設(shè)計(jì),性能的一個(gè)關(guān)鍵是其電子光學(xué)鏡筒。Gemini是為實(shí)現(xiàn)任何樣品的出色分辨率而特別設(shè)計(jì)的(尤其在低加速電壓下),可實(shí)現(xiàn)完整高效的探測(cè),且操作簡(jiǎn)單。
Gemini 1光學(xué)鏡筒包含電子束推進(jìn)器、Inlens探測(cè)器和Gemini物鏡。

Gemini電子光學(xué)系統(tǒng)有以下三個(gè)主要特征:

✔ Gemini物鏡的設(shè)計(jì)結(jié)合了靜電場(chǎng)與電磁場(chǎng),在大幅提升光學(xué)性能的同時(shí)大大降低了對(duì)樣品的影響。如此也可實(shí)現(xiàn)對(duì)磁性材料等具有挑戰(zhàn)性的樣品的高品質(zhì)成像。 ✔ Gemini電子束推進(jìn)器技術(shù)是一種集成光束減速器,確保了小尺寸的電子束斑和高信噪比。 ✔ Gemini Inlens的探測(cè)設(shè)計(jì)原理通過(guò)同時(shí)探測(cè)二次電子(SE)和背散射電子(BSE),大幅縮短到圖像的時(shí)間,確保了高效的信號(hào)探測(cè)。
火石顆粒,左:Inlens EsB,右:Inlens SE圖像。

針對(duì)您的應(yīng)用,可以有以下優(yōu)勢(shì):

✔ SEM電子束對(duì)準(zhǔn)可長(zhǎng)期保持穩(wěn)定,改變探針電流和加速電壓對(duì)系統(tǒng)幾乎沒(méi)有影響。 ✔ 幾乎無(wú)磁場(chǎng)泄露的光學(xué)系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)無(wú)失真高分辨率成像。 ✔ 使用Inlens SE探測(cè)器,可通過(guò)真正的表面敏感性SE 1電子技術(shù)生成圖像,從而只獲得樣品最頂層的信息。 ✔ 使用Inlens EsB探測(cè)器的探測(cè)設(shè)計(jì)理念,在非常低的電壓下獲得真實(shí)的材料成分襯度。    

● Gemini 2

充分利用快速分析

任何樣品的全面表征都需要高性能的成像和分析,另外,如今的用戶都希望設(shè)備易于設(shè)置和操作。Gemini 2光學(xué)系統(tǒng)能滿足這些需求。
Gemini技術(shù)。Gemini 2電子光學(xué)鏡筒截面示意圖,包含一個(gè)雙聚光鏡、電子束推進(jìn)器、Inlens探測(cè)器和Gemini物鏡。

高分辨率成像與分析可無(wú)縫切換

✔ GeminiSEM 460配備具有雙聚光鏡的Gemini 2光學(xué)系統(tǒng)。 ✔ 連續(xù)調(diào)整電子束的電流強(qiáng)度,同時(shí)優(yōu)化束斑大小。 ✔ 可在低束流的高分辨率成像與高束流的分析模式之間進(jìn)行無(wú)縫切換。 ✔ 在更改成像參數(shù)后無(wú)需進(jìn)行校準(zhǔn),省時(shí)省力。
鋼的EBSD圖。

保持靈活,高效工作

✔ 保持靈活:使用高電子束能量密度在低束流和高束流下進(jìn)行高分辨率成像和分析,不受您選擇的電子束能量影響。 ✔ 樣品不會(huì)暴露于磁場(chǎng)中:實(shí)現(xiàn)了大觀察視野內(nèi)的無(wú)失真EBSD圖案和高分辨率成像。 ✔ 樣品傾斜轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)不影響電子光學(xué)系統(tǒng)的性能,磁性樣品也能輕松成像。 ✔ 選擇適合樣品的消荷電模式:局部電荷補(bǔ)償、腔室內(nèi)可變壓力或NanoVP。  

● Gemini 3

在低于1 kV條件下成像——整合專業(yè)知識(shí)

Gemini 3光學(xué)系統(tǒng)優(yōu)化了低電壓和極低電壓下的分辨率并實(shí)現(xiàn)了襯度增強(qiáng),確保從1 kV到30 kV的所有工作條件下成像效果可達(dá)高分辨率且包含兩個(gè)彼此協(xié)同運(yùn)作的組件:Nano-twin物鏡和全新的電子光學(xué)引擎Smart Autopilot。此外,它還具有高分辨率電子槍模式和可選的樣品臺(tái)減速技術(shù)(Tandem decel)。 分辨率模式——讓您看到更多細(xì)節(jié) 通過(guò)兩種模式可獲得SEM圖像的更多細(xì)節(jié)和更多探測(cè)信號(hào)。在高分辨率電子槍模式下,電子束色差降低,從而實(shí)現(xiàn)了更小的束斑;在樣品臺(tái)減速技術(shù)模式下,為樣品施加減速電壓,從而可進(jìn)一步提高1 kV以下的圖像分辨率并增強(qiáng)背散射探測(cè)器的檢測(cè)效率。
Gemini 3鏡筒的全新光學(xué)設(shè)計(jì)。GeminiSEM 560的截面示意圖。Nano-twin物鏡(紅色),Smart Autopilot(藍(lán)色)。

Nano-twin物鏡的優(yōu)勢(shì):

✔ 在低電壓和超低電壓下達(dá)到亞納米級(jí)分辨率,實(shí)現(xiàn)更出色的信號(hào)探測(cè)效率。 ✔ 與標(biāo)準(zhǔn)Gemini物鏡相比,在低電壓下的物鏡像差降低了三倍,從而使樣品上的磁場(chǎng)降低了三倍,約為1 mT。 ✔ 優(yōu)化幾何結(jié)構(gòu)和靜電場(chǎng)及磁場(chǎng)分布。 ✔ Inlens探測(cè)器在低電壓成像條件下的信號(hào)得到增強(qiáng)。 ✔ 這些特性提供了在低于1 kV的條件下完成亞納米級(jí)成像的能力,而無(wú)需將樣品浸入電磁場(chǎng)中。
對(duì)焦1秒后自動(dòng)聚焦的準(zhǔn)確度

工作原理:

✔ Smart Autopilot優(yōu)化了通過(guò)鏡筒的電子軌跡,從而確保了在每個(gè)加速電壓下盡可能高的分辨率。 ✔ 該自動(dòng)功能實(shí)現(xiàn)了在整個(gè)放大倍率范圍內(nèi)(從1倍到2,000,000倍)的無(wú)縫對(duì)準(zhǔn)自由切換,并將觀察視野增加了10倍,從而可以在單幅圖像中對(duì)13 cm的物體成像。 ✔ 32k×24k的圖像存儲(chǔ)分辨率與新的概覽模式相結(jié)合,確保在超大觀察視野內(nèi)獲得無(wú)拼接的像素密度。
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